Płytki z węglem krzemowym płytki SiC płytki płytki do etasu ICP MOCVD Susceptor Odporny na zużycie

opis produktu

Płytki z węglem krzemowym płytki SiC płytki płytki do etasu ICP MOCVD Susceptor Odporny na zużycie

Opis

Taśmy z grafitu powlekanych SIC są wykonane z matryc grafitowych o wysokiej czystości, otrzymując powłokę SiC poprzez CVD (deponowanie par chemicznych) o wyjątkowo wysokiej czystości i teoretycznej gęstości.Ta powłoka CVD SiC jest wyjątkowo twarda., dzięki czemu można je polerować do lustrzanego wykończenia, wykazując bardzo wysoką czystość i niezwykłą odporność na zużycie.co sprawia, że są idealne dla przemysłu półprzewodnikowego i innych ultra-czyste ustawieniaWykorzystywane głównie jako podłoże do tworzenia warstwy epitaksyalnej na płytkach półprzewodnikowych, oferują kilka zalet, takich jak powierzchnie o bardzo wysokiej czystości i wyższa odporność na zużycie.Z CVD zapewniającym powłoki SiC o minimalnych porach i polerowalności węglanu krzemowego, produkty te znajdują szerokie zastosowanie w przemyśle półprzewodnikowym, w tym w tablicach MOCVD, komorach RTP i komorach do grafowania tlenku,z powodu doskonałej odporności azotanu krzemu na wstrząsy cieplne i wytrzymałości plazmy.

Wystawa produktów

Właściwości produktu

1. Ultra wysoka czystość
2. Doskonała odporność na wstrząsy cieplne
3. Doskonała odporność na uderzenia fizyczne
4. Możliwość obróbki skomplikowanych kształtów
5. Doskonała stabilność chemiczna
6. Może być stosowany w oksydującej atmosferze.

Zastosowanie produktu

ICP Etching:Taśmy z węglem krzemowym są kluczowymi komponentami w systemach etasowania ICP (Inductively Coupled Plasma), gdzie służą jako solidne platformy do przechowywania i przetwarzania płyt półprzewodnikowych.Odporność na zużycie tacy zapewniają długotrwałą niezawodność i spójność podczas procesu etsu, przyczyniając się do precyzyjnego przenoszenia wzoru i modyfikacji powierzchni na płytkach.

Podejrzany o MOCVD:W systemach MOCVD, taśmy z węglowodorem krzemowym działają jako podatniki, zapewniając stabilne wsparcie dla odkładania cienkich filmów na substraty półprzewodników.Możliwość utrzymania wysokiej czystości i wytrzymania podwyższonych temperatur sprawia, że taśmy są idealne do ułatwienia wzrostu warstw epitaksyalnych o wyższej jakości i jednolitości.

Odporność na zużycie:Wyposażone w powłokę SiC, te tacki wykazują wyjątkową odporność na zużycie, zapewniając wydłużoną żywotność nawet w wymagających warunkach eksploatacji.Ich odporność na ścieranie i degradację chemiczną zwiększa wydajność i minimalizuje czas przerwy, co czyni je niezbędnymi w środowiskach produkcji półprzewodników o wysokiej przepustowości.

Położona SIC tablica grafitowa służy jako podstawa do mocowania i ogrzewania płyt półprzewodnikowych podczas obróbki cieplnej.i jego odporność na wstrząsy cieplne, przewodność cieplna i czystość są niezbędne do szybkiego przetwarzania termicznego (RTP).a wydajność i jakość podstawy mają decydujący wpływ na jakość warstwy epitaksjalnej płytki.

Pytania i odpowiedzi

Co to jest grafit?

Wyroby z materiałów grafitowychchronić spiekarkę przed wpływami zewnętrznymi, takimi jak bezpośrednie promieniowanie cieplne z elementów grzewczychWykorzystuje się je do samodzielnego ogrzewania i jednolitej emisji ciepła do części roboczych, aby uniknąć lokalnego przegrzania (tzw. gorących punktów).

Co to jest powłoka SiC?

Co to jest powłoka z węglanu krzemowego?o pojemności nieprzekraczającej 10 W,Ma wysoką odporność na korozję i ciepło, a także doskonałą przewodność cieplną.Wnioski.

Co to jest grafit z węglanu krzemowego?

SiC30 - Materiał złożony z węglanu krzemu i grafitu

SiC30 jestniepowtarzalny materiał kompozytowy składający się z węglanu krzemu i grafitu, którego połączenie właściwości rozwiązuje problemy, których nie można rozwiązać innymi materiałami.Produkt

Zalecenie produktu

1SIC Silicon Carbide Wafer 4H - N Type For MOS Device 2inch Dia50.6mm ((więcej proszę kliknąć na zdjęcie)

Zwróć uwagę.

Prosimy o kontakt z nami w celu uzyskania szczegółowych informacji dotyczących dostosowywalnych opcji produktów.

Kluczowe słowa:

1. Tacy z węglem krzemowym
2. powłoka SiC
3. CVD (deponacja par chemicznych)
4. Wysoka czystość
5. Odporny na zużycie
6. Przemysł półprzewodników
7. Warstwa epitaksjalna
8. MOCVD
9. Odporność na uderzenia cieplne
10. Opcje dostosowywalne