logo
Dobra cena  w Internecie

szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Dom Created with Pixso. produkty Created with Pixso.
Płytka z węglika krzemu
Created with Pixso.

12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy)

12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy)

Nazwa marki: ZMSH
MOQ: 1
Cena £: by case
Szczegóły opakowania: niestandardowe kartony
Warunki płatności: T/T
Szczegółowe informacje
Miejsce pochodzenia:
Chiny
Polityp:
4h
Rodzaj dopingu:
Typ N
Średnica:
300 ± 0,5 mm
grubość:
Zielony: 600 ± 100 µm / Biały-przezroczysty: 700 ± 100 µm
Orientacja powierzchni (odcięta):
4° w kierunku \<11-20\> ± 0,5°
TTV (zmiana grubości całkowitej):
≤ 10 µm
Możliwość Supply:
W sprawie
Opis produktu

12-calowa płytka z węglika krzemu (SiC) – Wprowadzenie do produktu

Przegląd produktu

12-calowa płytka z węglika krzemu (SiC) reprezentuje nową generację podłoży półprzewodnikowych o szerokim paśmie wzbronionym, zaprojektowanych do obsługi produkcji na dużą skalę wysokowydajnych urządzeń energoelektronicznych. W porównaniu z konwencjonalnymi 6- i 8-calowymi płytkami SiC, format 12-calowy znacznie zwiększa użyteczną powierzchnię chipa na płytkę, poprawia wydajność produkcji i oferuje duży potencjał długoterminowej redukcji kosztów.

 

Węglik krzemu jest materiałem półprzewodnikowym o szerokim paśmie wzbronionym, charakteryzującym się wysoką wytrzymałością na przebicie pola elektrycznego, doskonałą przewodnością cieplną, dużą prędkością dryfu elektronów nasyconych i wyjątkową stabilnością termiczną. Te właściwości sprawiają, że 12-calowe płytki SiC są idealną platformą dla zastosowań wysokiego napięcia, dużej mocy i wysokiej temperatury.

 

12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy) 0       12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy) 1


Specyfikacje materiałowe i kryształowe

  • Materiał: Monokrystaliczny węglik krzemu (SiC)

  • Polimorfizm: 4H-SiC (standard dla urządzeń mocy)

  • Typ przewodnictwa:

    • Typ N (domieszkowany azotem)

    • Półizolacyjny (konfigurowalny)

Wzrost 12-calowych monokryształów SiC wymaga zaawansowanej kontroli gradientów temperatury, rozkładu naprężeń i wbudowywania zanieczyszczeń. Ulepszona technologia wzrostu kryształów PVT (Physical Vapor Transport) jest zwykle stosowana do uzyskania dużych średnic, niskich defektów bouli SiC.

 

 


12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy) 2

Proces produkcyjny

Produkcja 12-calowych płytek SiC obejmuje szereg precyzyjnych procesów:

  1. Wzrost monokryształów o dużej średnicy

  2. Orientacja kryształów i cięcie wlewków

  3. Precyzyjne szlifowanie i ścieńczanie płytek

  4. Polerowanie jednostronne lub dwustronne

  5. Zaawansowane czyszczenie i kompleksowa kontrola

Każdy krok jest ściśle kontrolowany, aby zapewnić doskonałą płaskość, jednolitość grubości i jakość powierzchni.

 


Kluczowe zalety

  • Wyższa wydajność urządzeń na płytkę: Większy rozmiar płytki umożliwia więcej chipów na serię

  • Ulepszona wydajność produkcji: Zoptymalizowany dla fabryk nowej generacji

  • Potencjał redukcji kosztów: Niższy koszt na urządzenie w produkcji wielkoseryjnej

  • Doskonała wydajność termiczna i elektryczna: Idealny do trudnych warunków pracy

  • Silna kompatybilność procesowa: Odpowiedni do produkcji urządzeń mocy SiC

 12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy) 3


Typowe zastosowania

  • Pojazdy elektryczne (SiC MOSFET, diody SiC Schottky'ego)

  • Ładowarki pokładowe (OBC) i falowniki trakcyjne

  • Infrastruktura szybkiego ładowania i moduły zasilania

  • Falowniki słoneczne i systemy magazynowania energii

  • Przemysłowe napędy silnikowe i systemy kolejowe

  • Zaawansowana elektronika mocy i zastosowania obronne

 

12-calowy (300 mm) SiC (karbid krzemowy) 4

 


Typowe specyfikacje (konfigurowalne)

Pozycja Typ N Klasa produkcyjna (P) Typ N Klasa Dummy (D) Typ SI Klasa produkcyjna (P)
Polimorfizm 4H 4H 4H
Typ domieszkowania Typ N Typ N /
Średnica 300 ± 0,5 mm 300 ± 0,5 mm 300 ± 0,5 mm
Grubość Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm
Orientacja powierzchni (Off-cut) 4° w kierunku ± 0,5° 4° w kierunku ± 0,5° 4° w kierunku ± 0,5°
Identyfikator płytki / Płaska strona główna Wcięcie (pełna okrągła płytka) Wcięcie (pełna okrągła płytka) Wcięcie (pełna okrągła płytka)
Głębokość wcięcia 1,0 – 1,5 mm 1,0 – 1,5 mm 1,0 – 1,5 mm
TTV (Całkowita zmienność grubości) ≤ 10 μm NA ≤ 10 μm
MPD (Gęstość mikrorur) ≤ 5 szt./cm² NA ≤ 5 szt./cm²
Rezystywność Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy
Obróbka powierzchni Si-face CMP (Polerowane) Szlifowanie CMP (Polerowane)
Obróbka krawędzi Fazowanie Brak fazowania Fazowanie
Wióry krawędzi (dopuszczalne) Głębokość wiórów < 0,5 mm Głębokość wiórów < 1,0 mm Głębokość wiórów < 0,5 mm
Znakowanie laserowe Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta
Obszar polimorfizmu (światło spolaryzowane) Brak polimorfizmu (wykluczenie krawędzi 3 mm) Obszar polimorfizmu < 5% (wykluczenie krawędzi 3 mm) Brak polimorfizmu (wykluczenie krawędzi 3 mm)
Pęknięcia (światło o dużej intensywności) Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm) Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm) Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm)

 


Często zadawane pytania (FAQ)

P1: Czy 12-calowe płytki SiC są gotowe do masowej produkcji?
Odp.: 12-calowe płytki SiC są obecnie na wczesnym etapie industrializacji i są aktywnie oceniane pod kątem produkcji pilotażowej i wolumenowej przez wiodących producentów na całym świecie.

 

P2: Jakie są zalety 12-calowych płytek SiC w porównaniu z 8-calowymi płytkami?
Odp.: Format 12-calowy znacznie zwiększa wydajność chipów na płytkę, poprawia przepustowość fabryki i oferuje długoterminowe korzyści kosztowe.

 

P3: Czy specyfikacje płytek można dostosować?
Odp.: Tak, parametry takie jak typ przewodnictwa, grubość, metoda polerowania i klasa kontroli mogą być dostosowane.