| Nazwa marki: | ZMSH |
| MOQ: | 1 |
| Cena £: | by case |
| Szczegóły opakowania: | niestandardowe kartony |
| Warunki płatności: | T/T |
12-calowa płytka z węglika krzemu (SiC) reprezentuje nową generację podłoży półprzewodnikowych o szerokim paśmie wzbronionym, zaprojektowanych do obsługi produkcji na dużą skalę wysokowydajnych urządzeń energoelektronicznych. W porównaniu z konwencjonalnymi 6- i 8-calowymi płytkami SiC, format 12-calowy znacznie zwiększa użyteczną powierzchnię chipa na płytkę, poprawia wydajność produkcji i oferuje duży potencjał długoterminowej redukcji kosztów.
Węglik krzemu jest materiałem półprzewodnikowym o szerokim paśmie wzbronionym, charakteryzującym się wysoką wytrzymałością na przebicie pola elektrycznego, doskonałą przewodnością cieplną, dużą prędkością dryfu elektronów nasyconych i wyjątkową stabilnością termiczną. Te właściwości sprawiają, że 12-calowe płytki SiC są idealną platformą dla zastosowań wysokiego napięcia, dużej mocy i wysokiej temperatury.
![]()
Materiał: Monokrystaliczny węglik krzemu (SiC)
Polimorfizm: 4H-SiC (standard dla urządzeń mocy)
Typ przewodnictwa:
Typ N (domieszkowany azotem)
Półizolacyjny (konfigurowalny)
Wzrost 12-calowych monokryształów SiC wymaga zaawansowanej kontroli gradientów temperatury, rozkładu naprężeń i wbudowywania zanieczyszczeń. Ulepszona technologia wzrostu kryształów PVT (Physical Vapor Transport) jest zwykle stosowana do uzyskania dużych średnic, niskich defektów bouli SiC.
Produkcja 12-calowych płytek SiC obejmuje szereg precyzyjnych procesów:
Wzrost monokryształów o dużej średnicy
Orientacja kryształów i cięcie wlewków
Precyzyjne szlifowanie i ścieńczanie płytek
Polerowanie jednostronne lub dwustronne
Zaawansowane czyszczenie i kompleksowa kontrola
Każdy krok jest ściśle kontrolowany, aby zapewnić doskonałą płaskość, jednolitość grubości i jakość powierzchni.
Wyższa wydajność urządzeń na płytkę: Większy rozmiar płytki umożliwia więcej chipów na serię
Ulepszona wydajność produkcji: Zoptymalizowany dla fabryk nowej generacji
Potencjał redukcji kosztów: Niższy koszt na urządzenie w produkcji wielkoseryjnej
Doskonała wydajność termiczna i elektryczna: Idealny do trudnych warunków pracy
Silna kompatybilność procesowa: Odpowiedni do produkcji urządzeń mocy SiC
![]()
Pojazdy elektryczne (SiC MOSFET, diody SiC Schottky'ego)
Ładowarki pokładowe (OBC) i falowniki trakcyjne
Infrastruktura szybkiego ładowania i moduły zasilania
Falowniki słoneczne i systemy magazynowania energii
Przemysłowe napędy silnikowe i systemy kolejowe
Zaawansowana elektronika mocy i zastosowania obronne
![]()
| Pozycja | Typ N Klasa produkcyjna (P) | Typ N Klasa Dummy (D) | Typ SI Klasa produkcyjna (P) |
|---|---|---|---|
| Polimorfizm | 4H | 4H | 4H |
| Typ domieszkowania | Typ N | Typ N | / |
| Średnica | 300 ± 0,5 mm | 300 ± 0,5 mm | 300 ± 0,5 mm |
| Grubość | Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm | Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm | Zielony: 600 ± 100 μm / Biało-przezroczysty: 700 ± 100 μm |
| Orientacja powierzchni (Off-cut) | 4° w kierunku ± 0,5° |
4° w kierunku ± 0,5° |
4° w kierunku ± 0,5° |
| Identyfikator płytki / Płaska strona główna | Wcięcie (pełna okrągła płytka) | Wcięcie (pełna okrągła płytka) | Wcięcie (pełna okrągła płytka) |
| Głębokość wcięcia | 1,0 – 1,5 mm | 1,0 – 1,5 mm | 1,0 – 1,5 mm |
| TTV (Całkowita zmienność grubości) | ≤ 10 μm | NA | ≤ 10 μm |
| MPD (Gęstość mikrorur) | ≤ 5 szt./cm² | NA | ≤ 5 szt./cm² |
| Rezystywność | Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy | Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy | Strefa pomiarowa: Obszar środkowy 8-calowy |
| Obróbka powierzchni Si-face | CMP (Polerowane) | Szlifowanie | CMP (Polerowane) |
| Obróbka krawędzi | Fazowanie | Brak fazowania | Fazowanie |
| Wióry krawędzi (dopuszczalne) | Głębokość wiórów < 0,5 mm | Głębokość wiórów < 1,0 mm | Głębokość wiórów < 0,5 mm |
| Znakowanie laserowe | Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta | Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta | Znakowanie C-side / Zgodnie z wymaganiami klienta |
| Obszar polimorfizmu (światło spolaryzowane) | Brak polimorfizmu (wykluczenie krawędzi 3 mm) | Obszar polimorfizmu < 5% (wykluczenie krawędzi 3 mm) | Brak polimorfizmu (wykluczenie krawędzi 3 mm) |
| Pęknięcia (światło o dużej intensywności) | Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm) | Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm) | Brak pęknięć (wykluczenie krawędzi 3 mm) |
P1: Czy 12-calowe płytki SiC są gotowe do masowej produkcji?
Odp.: 12-calowe płytki SiC są obecnie na wczesnym etapie industrializacji i są aktywnie oceniane pod kątem produkcji pilotażowej i wolumenowej przez wiodących producentów na całym świecie.
P2: Jakie są zalety 12-calowych płytek SiC w porównaniu z 8-calowymi płytkami?
Odp.: Format 12-calowy znacznie zwiększa wydajność chipów na płytkę, poprawia przepustowość fabryki i oferuje długoterminowe korzyści kosztowe.
P3: Czy specyfikacje płytek można dostosować?
Odp.: Tak, parametry takie jak typ przewodnictwa, grubość, metoda polerowania i klasa kontroli mogą być dostosowane.