Wprowadzenie produktu

W sprawieLustro z węglanu krzemu (SiC)jest wysokiej wydajności elementem optycznym przeznaczonym do zastosowań wymagających wyjątkowej sztywności, stabilności termicznej i precyzji optycznej.te lustra łączą siękonstrukcja ultralekkazwyższa wytrzymałość mechanicznaa takżedoskonała przewodność cieplna, dzięki czemu są idealne do zastosowania w optyce lotniczej, teleskopach astronomicznych, systemach laserowych i sprzęcie półprzewodnikowym.

W porównaniu z tradycyjnymi lusterkami ze szkła lub metalu,Lustra SiCwykazują wyjątkową stabilność wymiarową w szerokim zakresie temperatur i umożliwiają precyzyjną wydajność optyczną nawet w ekstremalnych warunkach środowiskowych, takich jak próżnia, kryogeniczne,lub pracy w wysokiej temperaturze.

Zasada produkcji

Lustra z węglika krzemowego są produkowane przy użyciuCVD (depozycja par chemicznych)lubSterowanie w reakcji wiązanej (RB-SiC)techniki.

1. Formacja materiału podstawowego:Cienkie proszki SiC są formowane w lekki podłoże poprzez precyzyjne formowanie lub produkcję dodatków.

2. Sintering i gęstnienie:Substrat jest spiekany w wysokiej temperaturze w celu osiągnięcia niemal teoretycznej gęstości i wyższej sztywności.

3. powłoka SiC CVD:W celu zwiększenia gładkości i odblaskowości powierzchni, przy jednoczesnym utrzymaniu wysokiej twardości i odporności na korozję, osadzana jest cienka warstwa SiC CVD.

4. Precyzyjne polerowanie:Powierzchnia lusterka jest polerowana w celu osiągnięcia grubości na poziomie nanometrów (Ra < 1 nm), zapewniając wyjątkową dokładność optyczną.

Ta architektura hybrydowa (RB-SiC + CVD SiC) łączy w sobie zaletyniska masa,wysoka sztywność, orazwykończenie powierzchniowe optyczne.

Główne zalety

• Ultralekka konstrukcja:Wysoki stosunek sztywności do masy umożliwia wykonanie cieńszych i większych lusterek o zmniejszonej masie.

• Doskonała przewodność cieplna:Szybkie rozpraszanie ciepła zapobiega zniekształceniu spowodowanemu gradientami temperatury.

• Wysoka sztywność specyficznaUtrzymuje dokładność obrazu optycznego w warunkach dynamicznych lub wibracji.

• Wyższa jakość powierzchni:Osiąga grubość lusterka poniżej 1 nm RMS, odpowiednia dla fal UV, widzialnych i IR.

• Odporność chemiczna i promieniowania:Stabilny w próżni, promieniowaniu i surowej atmosferze chemicznej.

• Dostosowywalne:Dostępne w geometrii płaskiej, kulistej, parabolicznej i asferycznej.

Typowe zastosowania

• Teleskopy kosmiczne i astronomiczne:Lekkie lusterka dla satelitarnych i systemów obserwacji w kosmosie.

• Optyka laserowa o dużej mocy:Optyka odblaskowa w systemach laserowych CO2, YAG i włókna.

• Systemy obrazowania podczerwonego:Obrazowanie termiczne i optyka odblaskowa IR długofalowa.

• Przetwarzanie półprzewodników:Komponenty optyczne w systemach litografii, inspekcji i wyrównania płytek.

• Systemy obrony i lotnictwa:Precyzyjne lusterka do celowania, skanowania i sterowania wiązką.

Specyfikacje techniczne (typowe)

Częste pytania

P1: Jakie są główne zalety lusterek SiC w stosunku do lusterek szklanych?
Odpowiedź: Lustra SiC są znacznie lżejsze, sztywniejsze i bardziej stabilne termicznie, co pozwala na wysoką precyzję obrazowania i minimalne deformacje w różnych środowiskach termicznych.

P2: Czy lustra SiC mogą być stosowane w systemach kryogenicznych lub próżniowych?
Odpowiedź: Tak, SiC sprawdza się doskonale w ekstremalnych temperaturach i w warunkach próżni, co czyni go idealnym rozwiązaniem do zastosowań w przestrzeni kosmicznej i w systemach optycznych podczerwieni.

P3: Jakie powłoki powierzchniowe są dostępne?
A3: Powszechne powłoki obejmują chroniony aluminium, srebro i złoto w celu optymalizacji odblaskowości dla określonych zakresów długości fali.

P4: Czy geometria niestandardowa jest obsługiwana?
Odpowiedź: Tak. Lustra mogą być wytwarzane jako płaskie, kuliste, paraboliczne lub wolnoformatowe powierzchnie w zależności od wymogów projektowania optycznego.