logo
Dobra cena  w Internecie

szczegółowe informacje o produktach

Created with Pixso. Dom Created with Pixso. produkty Created with Pixso.
Płytka z węglika krzemu
Created with Pixso.

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N typu Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N typu Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy

Nazwa marki: ZMSH
Warunki płatności: 100%T/T
Szczegółowe informacje
Place of Origin:
China
Rodzaj:
4H/6H-P 3C-N
TTV/Łuk/Osnowa:
≤2,5 μm/≤5 μm/≤15 μm/≤30 μm
Klasa:
Produkcja/Badania/Manekin
Średnica:
5*5mm±0,2mm i 10*10mm±0,2mm
Gęstość:
350 μm±25 μm
Orientacja opłatka:
Poza osią: 2,0°-4,0° w kierunku �112�0� ± 0,5° dla 4H/6H-P, Na osi: 〈111〉 ± 0,5° dla 3C-N
Oporność:
4H/6H-P ≤0,1 Ωcm 3C-N ≤0,8 mΩ•cm
Wykluczenie krawędzi:
3 mm
Podkreślić:

3C-N SiC Wafer

,

4H-P SiC Wafer

,

6H-P SiC Wafer

Opis produktu

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N Typ Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy

Opis płytki SiC o wymiarach 5×5 mm i 10×10 mm:

Płytki z węglanu krzemu (SiC) o wymiarach 5×5 mm i 10×10 mm to małe podłoża, które odgrywają kluczową rolę w różnych zastosowaniach półprzewodników.Powszechnie stosowane w kompaktowych urządzeniach elektronicznych, gdzie przestrzeń jest ograniczonaTe płytki SiC są niezbędnymi elementami w produkcji urządzeń elektronicznych, elektroniki mocy, optoelektroniki i czujników.Ich konkretne rozmiary spełniają różne wymagania w zakresie ograniczeń przestrzennych., potrzeby eksperymentacji i skalowalność produkcji.i producenci wykorzystują te płytki SiC do opracowania najnowocześniejszych technologii i zbadania unikalnych właściwości węglanu krzemu w szerokim zakresie zastosowań.

 

Znaky płytki SiC 5×5 mm i 10×10 mm:

4H-P typ SiC:
Wysoka mobilność elektronów.
Odpowiedni do zastosowań o dużej mocy i wysokiej częstotliwości.
Doskonała przewodność cieplna.
Idealny do pracy w wysokich temperaturach.
6H-P typ SiC:
Dobra wytrzymałość mechaniczna.
Wysoka przewodność cieplna.
Używane w zastosowaniach o wysokiej mocy i wysokiej temperaturze.
Odpowiedni do urządzeń elektronicznych w trudnych warunkach.
3C-N typ SiC:
Wszechstronne do elektroniki i optoelektroniki.
Kompatybilny z technologią krzemową.
Odpowiedni do układów scalonych.
Oferuje możliwości dla elektroniki szerokopasmowej

 

 

Formy płytek SiC o wymiarach 5 × 5 mm i 10 × 10 mm:

 

Klasa Wartość produkcji
(P stopnia)
Stopień badawczy
(klasy R)
Klasy fałszywe
(Klasa D)
Główna orientacja płaska 4H/6H-P {10-10} ±5,0°
  3C-N {1-10} ±5,0°
Pierwsza płaska długość 150,9 mm ±1,7 mm
Dalsza płaska długość 80,0 mm ±1,7 mm
Po drugie, orientacja płaska Silikon zwrócony w górę: 90° CW. od Prime flat ±5,0°
Węglowodany Polskie Ra≤1 nm
CMP Ra≤0,2 nm
Pęknięcia krawędzi
Światło o wysokiej intensywności
Żadnego 1 dozwolone, ≤1 mm
Płyty sześciokątne
Światło o wysokiej intensywności
Łączna powierzchnia ≤1 % Łączna powierzchnia ≤3 %
Politypowe obszary
Światło o wysokiej intensywności
Żadnego Łączna powierzchnia ≤ 2 % Łączna powierzchnia ≤ 5%
Zarysowania na powierzchni krzemu
Światło o wysokiej intensywności
3 zadrapania na 1 × płytkę
średnica łączna długość
5 zadrapań na 1 × płytkę
średnica łączna długość
8 zadrapań do 1 × średnicy płytki
długość kumulacyjna
Wyższy poziom chipów
Po intensywności Światło światło
Żadnego 3 dozwolone, ≤0,5 mm każda 5 dozwolone, ≤ 1 mm każda
Zanieczyszczenie powierzchni krzemu
Z intensywnym działaniem
Żadnego
Opakowanie Kaseta z wieloma płytkami lub pojemnik z jedną płytką

 

 

Fizyczne zdjęcie płytki SiC 5×5 mm i 10×10 mm:

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N typu Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy 0

 

 

Wykorzystanie płytek SiC o wymiarach 5×5 mm i 10×10 mm:

 

4H-P typ SiC:
Elektronika wysokiej mocy: Używana w diodach mocy, MOSFET i wyprostownikach wysokiego napięcia.
Urządzenia RF i mikrofalowe: nadają się do zastosowań wysokiej częstotliwości.
Środowiska o wysokiej temperaturze: Idealne do zastosowań w przemyśle lotniczym i samochodowym.
6H-P typ SiC:
Elektronika mocy: Używana w diodach Schottky'ego, mocnych MOSFETach i tirystorach do zastosowań o dużej mocy.
Elektronika o wysokiej temperaturze: nadaje się do elektroniki w trudnych warunkach.
3C-N typ SiC:
Obwody zintegrowane: Idealne do IC i MEMS ze względu na kompatybilność z technologią krzemu.
Optoelektronika: Używana w diodach LED, fotodetektorach i czujnikach.
Czujniki biomedyczne: stosowane w urządzeniach biomedycznych do różnych zastosowań czujnikowych.

 

 

ZastosowanieZdjęcia płytek SiC o wymiarach 5×5 mm i 10×10 mm:

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N typu Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy 1

 

Częste pytania:

1P: Jaka jest różnica między 3C a 4H-SiC?

Odpowiedź: Ogólnie rzecz biorąc, 3C-SiC jest znany jako stabilny w niskich temperaturach polityp, podczas gdy 4H i 6H-SiC są znane jako stabilne w wysokich temperaturach politypy.które wymagają stosunkowo wysokiej temperatury, a ilość wad warstwy nakładkowej jest skorelowana z stosunkiem Cl/Si.

 

Zalecenie produktu:

1.1.5 mm Grubość 4h-N 4H-SEMI SIC Wafer z węglowodorów krzemowych do epitaksjalnych

5 × 5 mm 10 × 10 mm Wafer SiC 4H-P 6H-P 3C-N typu Produkcja Stopień badawczy Stopień dummy 2