Płaszczyzna C (0001), Płaszczyzna A (11-20), Płaszczyzna R (1-102) lub Niestandardowa
Kształt podłoża:
Okrągły, kwadratowy, prostokątny lub niestandardowy
Proces metalizacji:
Rozpylanie, odparowywanie lub inne kwalifikowane procesy
Warstwa przyczepna:
Ti, Cr lub inne określone materiały
Warstwa barierowa:
Ni, Pt lub inne materiały, w zależności od projektu
Możliwość Supply:
Według przypadku
Podkreślić:
Metallized sapphire substrates for RF devices
,
Microwave microelectronic sapphire substrates
,
Sapphire substrates with metallized coating
Opis produktu
Product Overview Metallized sapphire substrates are functional substrate materials manufactured by depositing metallic thin films onto high-purity single-crystal sapphire (Al₂O₃). By combining the excellent electrical insulation, high hardness, chemical stability, and thermal stability of sapphire with the functional properties of metal films, these substrates provide a versatile solution for advanced electronic devices, RF components, optoelectronic systems, and semiconducto